| 埃维拓ATT100热法原子层沉积设备 | ||
| 序号 | 名称 | 技术参数 |
| 1 | 外形尺寸 | 钣金喷漆(可选配304不锈钢) 尺寸:720*700*1000 mm |
| 2 | 反应腔体 | 单腔反应腔(可选配双腔) |
| 3 | 衬底规格 | 4寸(可选配6 -12 英寸) |
| 4 | Angtouer 加热系统 | 400℃基板加热、300 ℃工艺腔室、250 ℃输送管线、200 ℃阀门加热、200 ℃前驱体加热,控制精度±1℃ |
| 5 | ALD阀门 | ALD专用超长寿命、高速驱动原子层沉积隔膜阀 |
| 6 | 前驱体输运系统 | 标准2路前驱体管路(可选配6路以上) |
| 7 | 载气系统 | N₂或者Ar,质量流量控制器 |
| 8 | 真空系统 | 极限真空<5×10 -3Torr,真空漏率<5×10 -7PaL/s |
| 9 | 沉积模式 | 连续模式、停流模式 |
| 10 | 控制系统 | 19寸显示器,工业级嵌入式工控机+PLC 设备支持“一键沉积”功能,支持历史数据、工艺配方、报警及日志的储存和导入导出的功能 |
| 11 | 安全保护 | 软件安全联锁/门联锁装置/紧急断电(EMO) |
| 12 | 选配 | 臭氧发生器/ QCM/尾气处理装置 |
| 13 | 预留模块 | 预留等离子体系统接口,无需更换腔体即可直接升级至等离子体系统(PEALD),实现热法ALD与PEALD的双模式切换 |
| 14 | 沉积材料种类 | HfO₂、ZrO₂、Al₂O3、TiO₂、ZnO、MgO、SnO₂、SiO₂、Pt及复合薄膜等 |