市场痛点
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原子层沉积（ALD)设备产品存在痛点：三低二差
一低
设备控制精度低 （温度、气体流量控制等）
二低
自动化、在线化程度低 （系统集成及自动控制度低）
三低
设备匹配度低，使用繁琐 （各模块之间转换方式不统一）
二差
材料制备一致性差、稳定性差 （批次制备不均匀）
解决方案
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专注从事原子层沉积设备制造和工艺开发的厂家。 拥有多台 ALD 设备用于薄膜开发。 为不同行业不同样品提供 ALD 代加工服务，可为客户提供最专业的材料开发技术支持。 埃拓科技将提供从ALD 设备到工艺的全方位服务。