关于埃维拓
苏州埃拓精密科技有限公司成立于江苏苏州, 专注从事原子层沉积设备制造和工艺开发的厂家。
产品涵盖纳米薄膜与粉体等多种制备设备, 用户服务于国内外相关领域的重点大学和研究机构与企业。
公司拥有独立的 ALD 工艺开发部门， 在薄膜材料研发方面经验丰富。
实验室内拥有多台 ALD 设备用于薄膜开发，可为不同行业不同样品提供 ALD代加工服务，可为客户提供最专业的材料开发技术支持。
埃拓科技将提供从ALD设备到工艺的全方位服务。
利他
守正
自主
创新
产品设备
- ATT100
- ATPE100
- ATG100
埃维拓ATT100热法原子层沉积设备
产品特点及优势：
· 真空测量采用双真空压力计组合方式，工艺数据更真实，更迅速，更精确；
· 采用 PLC+工控机，设备全参数集成控制，支持“一键沉积”功能，设备操作更简便；
· 高性能控制阀门，耐温性/耐腐蚀更强，保障设备运行稳定性；
ALD原子层沉积
通过控制反应条件可以沉积多种薄膜或金属催化剂
并对膜厚或金属催化剂负载量进行精确调控
三维共形性
精准控制
低温制备工艺
均匀性
材料选择广泛
良好的附着力
微机电系统/传感器应用
制备MEMS器件
ALD沉积的薄膜通常具有较高的致密性和均匀性，能够显著提升MEMS器件的机械、化学和电学性能，增加其稳定性和耐用性。
半导体行业应用
沉积高k电介质薄膜（IC）
采用具有高介电常数 (k) 的材料（例如Al₂O₃和HfO₂）来补偿因厚度减小引起的电容降低。
光伏领域应用
沉积Al₂O₃和SiNx
电池片的正面或背面沉积Al₂O₃和SiNx，ALD镀层可作为表面钝化层、缓冲层、窗口层、吸收层、电子/空穴接触层或透明导电氧化物。
新型显示行业应用
ALD封装膜
ALD薄膜的优异保型性能够提供高效的钝化保护层，有效阻隔水氧侵蚀，提升LED的性能和耐用性。
光学器件行业应用
AR膜
ALD技术的台阶覆盖性优势使其能够在微透镜或超构表面沉积单层或多层膜，从而改善复杂结构透镜的热稳定性，并增加与周围环境的折射率对比。
ALD镀层可作为表面钝化层、缓冲层、窗口层、吸收层、电子/空穴接触层或透明导电氧化物。
微机电系统/传感器应用
制备MEMS器件
ALD沉积的薄膜通常具有较高的致密性和均匀性，能够显著提升MEMS器件的机械、化学和电学性能，增加其稳定性和耐用性。
半导体行业应用
沉积高k电介质薄膜（IC）
采用具有高介电常数 (k) 的材料（例如Al₂O₃和HfO₂）来补偿因厚度减小引起的电容降低。
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